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 Investigation of surface reactions of etched SiN films using HF/PF3 gas mixture plasma under cryogenic conditions via in-line XPS: The role of ammonium salts in etch rate enhancement 相关领域
蚀刻（微加工）
材料科学
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Junji Kataoka; Yuma Kato; Daiki Iino; Kazuaki Kurihara; Hiroyuki Fukumizu 出版日期：2026-02-17 |
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