| 标题 |
 Investigation into the multi-scale evolution and mechanisms of the chemical mechanical polishing process for AlN 相关领域
材料科学
残余应力
表面完整性
抛光
化学机械平面化
薄脆饼
应力松弛
机械加工
表面粗糙度
复合材料
压力（语言学）
各向异性
极限抗拉强度
结晶度
Crystal（编程语言）
表面光洁度
放松（心理学）
拉曼光谱
基质（水族馆）
表面应力
变形（气象学）
单晶
抗压强度
硬化（计算）
晶体结构
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| 其它 |
期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Tong Peng; Qiubo Li; Yuzhu Wu; Hao Guan; Mengxin Wang; et al 出版日期：2026-10-17 |
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