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Ta5+-substitution effects on crystal structure and ferroelectric property in HfO2-based films
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网址
https://doi.org/10.35848/1347-4065/ad6fa9
DOI
10.35848/1347-4065/ad6fa9 doi
其它 期刊：Japanese Journal of Applied Physics
作者：Y. Maekawa; Takanori Mimura; Yoshiyuki Inaguma; Hiroshi Uchida; Yuxian Hu; et al
出版日期：2024-08-15
求助人
Yella 在 2026-01-09 22:07:36 发布自四川，悬赏 10 积分
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