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Dissociative photoionization of EUV lithography photoresist models
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网址
https://doi.org/10.1117/12.2657702
AI链接 arxiv.org arxiv.orgdoi.org
DOI
10.1117/12.2657702 doi
其它 期刊：
作者：Marziogiuseppe Gentile; Marius Gerlach; Robert Richter; Michiel J. van Setten; John S. Petersen; et al
出版日期：2023-05-01
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超超 在 2026-01-05 08:35:36 发布自浙江，悬赏 20 积分
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