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 Modeling and growth analysis of heteroepitaxial α-Ga2O3 films by mist chemical vapor deposition 相关领域
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期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Runchen Wang; Qi Li; Na Lin; Zhitai Jia; Yanbin Li; et al 出版日期：2026-04-28 |
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(2025-6-4)
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