Modeling and growth analysis of heteroepitaxial α-Ga2O3 films by mist chemical vapor deposition

材料科学 化学气相沉积 雷登弗罗斯特效应 基质(水族馆) 工作(物理) 沉积(地质) 过程(计算) 化学工程 化学反应 流量(数学) 增长率 纳米技术 薄膜 动力学 化学物理 进程窗口 化学动力学 机械 增长模型 体积流量 分子动力学 混合物理化学气相沉积 燃烧化学气相沉积 热力学 晶体生长 过程建模 外延 有限元法
作者
Runchen Wang,Qi Li,Na Lin,Zhitai Jia,Yanbin Li,Di Xiao,Hua Yu Feng
出处
期刊:Materials Science in Semiconductor Processing [Elsevier BV]
卷期号:211: 110733-110733
标识
DOI:10.1016/j.mssp.2026.110733

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