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193-nm positive-tone bilayer resist based on norbornene-maleic anhydride copolymers |
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期刊:Advances in Resist Technology and Processing XVII 作者:Francis M. Houlihan; Ratnam Sooriyakumaran; Debra Fenzel-Alexander; Phillip J. Brock; Carl E. Larson; et al 出版日期:2000 |
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(2025-6-4)