Evaluation of Si thin film formed from Si0.7Ge0.3/Si/Si0.7Ge0.3-stacked layers with CF4/H2 plasma for Si-nanosheet formation toward GAA transistor application

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标题	Evaluation of Si thin film formed from Si0.7Ge0.3/Si/Si0.7Ge0.3-stacked layers with CF4/H2 plasma for Si-nanosheet formation toward GAA transistor application
网址	https://pubs.aip.org/aip/apl/article-pdf/doi/10.1063/5.03151...
DOI	10.1063/5.0315151 doi
其它	期刊：Applied Physics Letters 作者：Kotaro Ozaki; Yusuke Imai; Yuki Imai; Takayoshi Tsutsumi; Kenji Ishikawa; et al 出版日期：2026-05-26
求助人	熬夜写论文在 2026-06-05 01:02:30 发布自江苏，悬赏 10 积分
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