| 标题 |
Mechanism and Simulation of Removal Rate and Surface Roughness During Optical Polishing of Glasses 玻璃光学抛光过程中去除率和表面粗糙度的机理及模拟
相关领域
材料科学
抛光
表面粗糙度
泥浆
复合材料
化学机械平面化
表面光洁度
白光干涉法
粒子(生态学)
粒径
研磨
穿透深度
光学
干涉测量
化学工程
地质学
工程类
物理
海洋学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Journal of the American Ceramic Society 作者:Tayyab Suratwala; William Steele; Michael Feit; Nan Shen; Rebecca Dylla‐Spears; et al 出版日期:2016-03-22 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|