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 Study on wet etching of dummy polysilicon in narrow pattern gap using alkaline solution 利用碱性溶液湿法刻蚀窄图案间隙中虚拟多晶硅的研究
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期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Dongjoo Shin; Kwangsu Kim; Youngki Ahn; Taesung Kim 出版日期：2022-06-01 |
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