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High-temperature high-growth-rate atomic layer deposition of SiO2 using hexamethyldisilylamino-dimethylamino-silane |
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期刊:Applied Surface Science 作者:Changgyu Kim; Okhyeon Kim; Tanzia Chowdhury; Mi-Soo Kim; Hye-Lee Kim; et al 出版日期:2026-03-01 |
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