19-nm critical dimension process using mask shift double exposure in ArF immersion

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标题	19-nm critical dimension process using mask shift double exposure in ArF immersion
网址	https://doi.org/10.1117/1.jmm.23.1.014801
DOI	10.1117/1.jmm.23.1.014801 doi
其它	期刊：Journal of micro/nanopatterning, materials, and metrology 作者：Jungchul Song; Gyu-Won Han; Jeong-Hwan Kim; Ga‐Won Lee 出版日期：2024-02-01
求助人	难过的谷芹在 2026-08-30 20:41:04 发布自河南，悬赏 20 积分
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