Effect of Gate Bias Stress on the Electrical Characteristics of Ferroelectric Oxide Thin-Film Transistors with Poly(Vinylidenefluoride-Trifluoroethylene)

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标题	Effect of Gate Bias Stress on the Electrical Characteristics of Ferroelectric Oxide Thin-Film Transistors with Poly(Vinylidenefluoride-Trifluoroethylene)
网址	https://www.mdpi.com/1996-1944/16/6/2285/pdf?version=1678681...
DOI	10.3390/ma16062285 doi
其它	期刊：Materials 作者：Bon-Seong Gu; Eun-Seo Park; Jin-Hyuk Kwon; Min‐Hoi Kim 出版日期：2023-03-01
求助人	lyf 在 2026-07-22 16:11:43 发布自广东，悬赏 10 积分
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