| 标题 |
Simulation and design of planarizing materials for reverse-tone step and flash imprint lithography |
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| DOI |
10.1117/1.2896047
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期刊:Journal of Micro-nanolithography Mems and Moems 作者:Michael W. Lin; B. Chao; J. Hao; K. Osberg; P. Ho; et al 出版日期:2008-04-01 |
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(2025-6-4)