Mitigate slit position dependent cd variation with source optimization

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标题	Mitigate slit position dependent cd variation with source optimization
网址	https://www.spiedigitallibrary.org/conference-proceedings-of...
DOI	10.1117/12.3108584 doi
其它	期刊：Optical and EUV Nanolithography XXXIX 作者：Pokai Chang; Chao Huang; Peichen Yu 出版日期：2026-04-10
求助人	aa3294 在 2026-07-30 10:57:46 发布自北京，悬赏 20 积分
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