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 Atomic layer deposition of tin oxide films using tetrakis(dimethylamino) tin 四（二甲氨基）锡原子层沉积氧化锡薄膜
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锡
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Jeffrey W. Elam; David Baker; Alexander J. Hryn; Alex B. F. Martinson; Michael J. Pellin; et al 出版日期：2008-01-29 |
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