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 Characterisation of a novel electron beam lithography resist, SML and its comparison to PMMA and ZEP resists 新型电子束光刻抗蚀剂SML的表征及其与PMMA和ZEP抗蚀剂的比较
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期刊：Microelectronic Engineering 作者：Anushka Gangnaik; Yordan M. Georgiev; Brendan McCarthy; Nikolay Petkov; Vladimir Djara; et al 出版日期：2014-06-23 |
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