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  Brief Review of Atomic Layer Etching Based on Radiofrequency-Biased Ar/C4F6-Mixture-Based Inductively Coupled Plasma Characteristics 基于射频偏置Ar/C4F6混合物电感耦合等离子体特性的原子层刻蚀综述
相关领域
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蚀刻（微加工）
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期刊：Applied Science and Convergence Technology 作者：Min Young Yoon; Hee Jung Yeom; Jong‐Ryul Jeong; Jung‐Hyung Kim; Hyo‐Chang Lee 出版日期：2023-03-30 |
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