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[高分] LPCVD of Al2O3 layers using a hot-wall reactor
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网址
https://doi.org/10.1051/jp4:1993381
AI链接 archives-ouvertes.fr hal.science archives-ouvertes.fr hal.science archives-ouvertes.frdoi.org
DOI
10.1051/jp4:1993381 doi
其它 期刊：Journal de Physique IV (Proceedings)
作者：C. Labatut; C. Combescure; B. Armas
出版日期：1993-08-01
求助人
睡睡睡睡睡睡 在 2025-10-12 18:56:53 发布自云南，悬赏 50 积分
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