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 Photochemical study of metal infiltrated e-beam resist using vapor-phase infiltration for EUV applications 用于EUV应用的气相渗透金属渗透电子束抗蚀剂的光化学研究
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期刊： 作者：Su Min Hwang; Aditya Raja Gummadavelly; Dan N. Le; Yong Chan Jung; Jean-François Veyan; et al 出版日期：2021-09-30 |
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