Control of oxidation on NiSix during etching and ashing processes

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标题	Control of oxidation on NiSix during etching and ashing processes 蚀刻和灰化过程中NiSix氧化的控制相关领域 X射线光电子能谱蚀刻（微加工）灰化氧化物氟反应离子刻蚀化学氮气分析化学（期刊）材料科学无机化学化学工程冶金环境化学图层（电子）有机化学物理工程类量子力学
网址	https://doi.org/10.1016/j.tsf.2006.10.032
DOI	10.1016/j.tsf.2006.10.032 doi
其它	期刊：Thin Solid Films 作者：Shigenori Sakamori; Kazumasa Yonekura; Nobuo Fujiwara; Takayoshi Kosaka; M. Ohkuni; et al 出版日期：2006-11-30
求助人	goudan123 在 2025-11-19 09:07:39 发布自湖北，悬赏 10 积分
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