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 Antimony and Boron Diffusion in Silicon and Silicon Germanium under the Influence of Point Defects Injection by Rapid Thermal Anneal 相关领域
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期刊：MRS Proceedings 作者：Aihua Dan; A. F. W. Willoughby; J. M. Bonar; B. M. McGregor; Mark Dowsett; et al 出版日期：2001-01-01 |
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