In situ studies on atomic layer etching of aluminum oxide using sequential reactions with trimethylaluminum and hydrogen fluoride

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标题	In situ studies on atomic layer etching of aluminum oxide using sequential reactions with trimethylaluminum and hydrogen fluoride 三甲基铝和氟化氢顺序反应原位原子层刻蚀氧化铝相关领域原子层沉积蚀刻（微加工） X射线光电子能谱分析化学（期刊）氟化氢氢椭圆偏振法化学图层（电子）氧化物干法蚀刻材料科学薄膜无机化学纳米技术化学工程冶金有机化学工程类
网址	https://doi.org/10.1116/6.0001630 AI链接 scitation.org qucosa.dedoi.org
DOI	10.1116/6.0001630 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Johanna Reif; Martin Knaut; Sebastian Killge; Matthias Albert; Thomas Mikolajick; et al 出版日期：2022-04-11
求助人	hxd_BIGpaperer 在 2025-12-11 16:40:38 发布自浙江，悬赏 10 积分
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