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标题
Growth mechanism and electrical properties of tungsten films deposited by plasma-enhanced atomic layer deposition with chloride and metal organic precursors
网址
https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2021.150939
DOI
10.1016/j.apsusc.2021.150939 doi
其它 期刊：Applied Surface Science
作者：Yujin Lee; Seunggi Seo; Taewook Nam; Hyunho Lee; Hwi Yoon; et al
出版日期：2021-08-16
求助人
chenyangzhou521 在 2026-09-02 13:21:28 发布自福建，悬赏 10 积分
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