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 Trivalent lanthanum and ytterbium doped meso-silica/ceria abrasive systems toward chemical mechanical polishing (CMP) and ultraviolet irradiation-assisted photochemical mechanical polishing (PCMP) 相关领域
化学机械平面化
材料科学
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期刊：Applied Surface Science 作者：Zihan Kou; Chao Wang; Wenjin Zhou; Ailian Chen; Yang Chen 出版日期：2024-02-20 |
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