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 Ultrasensitive metal-organic cluster resist for patterning of single exposure high numerical aperture extreme ultraviolet lithography applications 相关领域
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期刊：Journal of micro/nanopatterning, materials, and metrology 作者：Manvendra Singh Chauhan; Kumar Palit; Sumit Choudhary; Satinder K. Sharma; Kenneth E. Gonsalves 出版日期：2022-12-27 |
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