OPC model building for EUV lithography

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标题	OPC model building for EUV lithography 适用于极紫外光曝光的OPC模型构建相关领域极紫外光刻十字线平版印刷术制作光刻光学航空影像计算机科学材料科学光电子学物理人工智能图像（数学）医学替代医学病理薄脆饼
网址	https://doi.org/10.1117/12.2531430
DOI	10.1117/12.2531430 doi
其它	期刊：作者：Benjamin C. P. Ho; Jonathan Doebler; Ardavan Niroomand 出版日期：2019-09-26
求助人	文艺Chelsey 在 2025-07-16 11:11:16 发布自吉林，悬赏 20 积分
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