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标题
Hard X-ray HfO2/Al2O3 multilayers fabricated by atomic layer deposition
原子层沉积法制备硬X射线HfO2/Al2O3多层膜
相关领域
原子层沉积 图层（电子） 材料科学 沉积（地质） 纳米技术 地质学 沉积物 古生物学
网址
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2024.140479
DOI
10.1016/j.tsf.2024.140479 doi
其它 期刊：Thin Solid Films
作者：Yanli Li; Weier Lu; Wensi Lv; Xiangdong Kong; He Zhang; et al
出版日期：2024-07-28
求助人
鸡蛋灌饼 在 2025-04-29 08:57:46 发布自江苏，悬赏 10 积分
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