Gas-phase chemistry and etching mechanism of SiNx thin films in C4F8 + Ar inductively coupled plasma

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标题	Gas-phase chemistry and etching mechanism of SiNx thin films in C4F8 + Ar inductively coupled plasma
网址	http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2019.05.066
DOI	10.1016/j.tsf.2019.05.066 doi
其它	期刊：Thin Solid Films 作者：Nomin Lim; Alexander Efremov; Kwang-Ho Kwon 出版日期：2019-09-01
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