【求助】 Cu 箔在 NaOH/APS 氧化生长 Cu(OH)₂ 前应该如何清洗？我最近准备做一个 Cu 箔表面原位生长 Cu(OH)₂ 阵列的实验，后续想用于锂金属电池中 Cu 集流体界面改性。反应体系参考文献中的 NaOH/(NH₄)₂S₂O₈ 碱性氧化法，大致是将 Cu 箔浸入 NaOH + APS 溶液中，在室温下氧化生成蓝色 Cu(OH)₂ 纳米结构。
我现在比较困惑的是 Cu 箔反应前的清洗/预处理步骤。
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