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Anisotropic vapor HF etching of silicon dioxide for Si microstructure release

二氧化硅 氢氟酸 硅 材料科学 蚀刻（微加工） 图层（电子） 干法蚀刻 微电子机械系统 缓冲氧化物腐蚀 微观结构 反应离子刻蚀 复合材料 光电子学 纳米技术 化学工程 冶金 工程类
作者
Vikram Passi,U. Södervall,B. Nilsson,Göran Petersson,Mats Hagberg,Christophe Krzeminski,Emmanuel Dubois,Bert Du Bois,Jean‐Pierre Raskin
出处
期刊：Microelectronic Engineering [Elsevier BV]
日期：2012-01-30 卷期号：95: 83-89 被引量：9
链接
hal.science hal.science arxiv.org arxiv.org hal.science archives-ouvertes.fr archives-ouvertes.fr datacite.orgdoi.org
标识
DOI：10.1016/j.mee.2012.01.005
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