Exploring nanoscale metallic multilayer Ta/Cu films: Structure and some insights on deformation and strengthening mechanisms

材料科学 纳米尺度 变形(气象学) 材料的强化机理 金属 纳米技术 冶金 复合材料 微观结构
作者
Daniel Karpinski,Tomáš Polcar,Andrey Bondarev
出处
期刊:Materials Characterization [Elsevier]
卷期号:212: 113933-113933 被引量:8
标识
DOI:10.1016/j.matchar.2024.113933
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