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作者
Zeng Xl,Chuang Tian,Dong Zhang,Guanghui Yu,Yuan Hu,Jun Li,Kecheng Cao
出处
期刊:Nano Letters
[American Chemical Society]
日期:2026-01-30
卷期号:26 (5): 1872-1879
标识
DOI:10.1021/acs.nanolett.5c05946
摘要
monolayer and revealing an unexpected atomic-scale self-repair mechanism. This technique advances the study of twistronics in 2D quantum materials by providing a pathway for atomically precise engineering of moiré-driven electronic states while highlighting the potential of electron beam lithography (EBL) for the controllable fabrication of moiré devices.
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