Analysis of phase shift effects on metal etching profiles in RF-biased ICP reactors

相(物质) 材料科学 核工程 环境科学 化学 工程类 有机化学
作者
Paul Yang,Wan Soo Song,Karam Ahn,Chi‐Young Lee,B.Y. Oh,Beom Seok Kim,Yoon Young Lee,Jin Cheol Son
出处
期刊:Vacuum [Elsevier BV]
卷期号:233: 114032-114032 被引量:1
标识
DOI:10.1016/j.vacuum.2025.114032
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