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High-quality SiNx thin-film growth at 300 °C using atomic layer deposition with hollow-cathode plasma
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作者
Jae Chan Park,
Dae Hyun Kim,
Tae Jun Seok,
Dae Woong Kim,
Ji‐Hoon Ahn,
Woo‐Hee Kim,
Tae Joo Park
出处
期刊：
Journal of Materials Chemistry C
[Royal Society of Chemistry]
日期：2023-01-01
卷期号：11 (27): 9107-9113
标识
DOI：10.1039/d3tc00475a
摘要
A novel remote high-density plasma source, hollow cathode plasma source allows low-temperature growth of high-quality SiN x films without oxygen impurities, showing superior physicochemical and electrical properties.
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