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Nanoscratch behaviors of SiO2/Si bilayer materials: A molecular dynamics study

材料科学 分子动力学 双层 纳米技术 化学物理 工程物理 计算化学 膜 化学 遗传学 生物 物理 工程类
作者
Juan Chen,Yunyun Dai,Liang Fang,Huiqin Chen,Zhe Wang,Fengming Qin
出处
期刊：Materials today communications [Elsevier]
日期：2025-08-06 卷期号：48: 113523-113523
标识
DOI：10.1016/j.mtcomm.2025.113523
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