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Halide Perovskite Memristor Crossbar Arrays for Low Voltage in Memory Computing

神经形态工程学 记忆电阻器 横杆开关 材料科学 电阻随机存取存储器 CMOS芯片 光电子学 钙钛矿(结构) 空位缺陷 低压 异质结 泄漏(经济) 纳米技术 可靠性(半导体) 卤化物 堆积 互连 高效能源利用 电压 低能 晶界 晶体管 离子 电阻式触摸屏 频道(广播) 电阻器 半导体 量子隧道 电子工程 格子(音乐) 兴奋剂 非易失性存储器 工程物理 相变存储器 相(物质) 纳米电子学 Crystal(编程语言)
作者
Hyojung Kim
出处
期刊:Advanced Materials Interfaces [Wiley]
卷期号:12 (22) 被引量:1
标识
DOI:10.1002/admi.202500729
摘要

Abstract Halide‐perovskite memristors have progressed from initial single‐junction cells to centimeter‐scale crossbar arrays that are suitable for integration with CMOS back‐end systems. While ion‐soft frameworks enable sub‐picojoule multilayer resistance tuning, they remain vulnerable to moisture intrusion and vacancy drift. This study connects lattice distortion, defect‐creation enthalpy, and ion‐migration thresholds to composition, dimensionality, and interfacial engineering. The implementation of targeted compositional heterostructures effectively reduces ion hopping during high‐temperature operation, leading to a substantial decrease in leakage currents. The introductory section examines the structural and functional basis, covering phase equilibria, band‐gap tunability, and crystal chemistry guided by tolerance factors. The final perspective discusses phase conversions caused by humidity, random filament failures, and thermal limitations while suggesting the implementation of circuit‐aware material screening alongside in situ diagnostics to enhance the reliability and energy efficiency of data‐driven neuromorphic computing systems.
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