Impact of gate metals/high-K materials and lateral scaling on the performance of AlN/GaN/AlGaN-MOSHEMT on SiC wafer for future microwave power amplifiers in RADAR & communication systems

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作者
Gauri Deshpande,J. Ajayan,Sandip Bhattacharya,B. Mounika,Amit Krishna Dwivedi,D. Nirmal
出处
期刊:Results in engineering [Elsevier BV]
卷期号:25: 104156-104156 被引量:3
标识
DOI:10.1016/j.rineng.2025.104156
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