Engineering BiVO4@Bi2S3 heterojunction by cosharing bismuth atoms toward boosted photocatalytic Cr(VI) reduction

光催化 异质结 半导体 载流子 纳米结构 纳米技术 材料科学 化学 催化作用 光电子学 冶金 生物化学
作者
Xinyi Lian,Jiguang Zhang,Yue Zhan,Yanping Zhang,Shuangli Yang,Zhou Chen,Yunyun Dong,Weiping Fang,Xiaodong Yi
出处
期刊:Journal of Hazardous Materials [Elsevier BV]
卷期号:406: 124705-124705 被引量:92
标识
DOI:10.1016/j.jhazmat.2020.124705
摘要

The photocatalytic efficiency is limited by poor charge separation efficiency and high carrier transport activation energy (CTAE) of photogenerated electron/hole pairs than traditional semiconductor. Hybridizing nanostructure with two staggered alignment band structure is proved as an effective strategy to mitigate these two challenges but still suffers a strong coulomb electrostatic repulsive force between two heterogeneous semiconductors. Here, we steer a friendly sulfurization process to construct BiVO4@Bi2S3 heterojunction with a scenario of cosharing Bi atoms. The intimate atomic-level contact between BiVO4 and Bi2S3 not only enhances the visible-light absorption and lowers CTAE, but also accelerate carrier’s separation efficiency, which enables it to deliver the best photocatalytic performance toward reduction of Cr(VI). BiVO4@Bi2S3 only needs less than 40 min to completely reduce 50 ppm Cr(VI) solution. The type II heterojunction photocatalytic mechanism is systematically studied to decipher the carriers’ transfer track between BiVO4 and Bi2S3. Our new finding of engineering inorganic heterojunction by cosharing atoms opens a new avenue to other similar materials for potential applications.
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