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Novel sulfonylimide photo-acid generators for deep ultraviolet photoresist with improved acid diffusion inhibition performance through retarding the anion diffusion

化学 光刻胶 扩散 紫外线 离子 光化学 化学工程 光电子学 有机化学 热力学 物理 工程类 图层(电子)
作者
Guangju Liu,Na Li,Xiang Gao
出处
期刊:Journal of Photochemistry and Photobiology A-chemistry [Elsevier BV]
卷期号:463: 116279-116279
标识
DOI:10.1016/j.jphotochem.2025.116279
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