ChemInform Abstract: THE CHARACTERISTICS OF GROWTH OF FILMS OF ZIRCONIUM AND HAFNIUM OXIDES (ZRO2, HFO2) BY THERMAL DECOMPOSITION OF ZIRCONIUM AND HAFNIUM β‐DIKETONATE COMPLEXES IN THE PRESENCE AND ABSENCE OF OXYGEN

Abstract Die Wachstumsgeschwindigkeit der Oxidfilme, die bei der thermischen Zers. der Tetrakis‐trifluoracetylacetonate von Zr und Hf in Gegenwart und in Abwesenheit von O2 auf einem geeigneten Substrat (Si, W, Pt, Quarz) abgeschieden werden, wird bei Substrat‐Temp zwischen 300 und 700°C untersucht.