Magnetocapacitance at the Ni/BiInO3 Schottky Interface

材料科学 磁电容 接口(物质) 肖特基二极管 肖特基势垒 工程物理 光电子学 复合材料 铁电性 多铁性 电介质 物理 二极管 毛细管数 毛细管作用
作者
Gauthami Viswan,Kun Wang,Robert Streubel,Xia Hong,Nagarajan Valanoor,Daniel Sando,Peter A. Dowben
出处
期刊:ACS Applied Materials & Interfaces [American Chemical Society]
卷期号:16 (3): 4108-4116
标识
DOI:10.1021/acsami.3c13478
摘要

We report the observation of a magnetocapacitance effect at the interface between Ni and epitaxial nonpolar BiInO3 thin films at room temperature. A detailed surface study using X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) reveals the formation of an intermetallic Ni-Bi alloy at the Ni/BiInO3 interface and a shift in the Bi 4f and In 3d core levels to higher binding energies with increasing Ni thickness. The latter infers band bending in BiInO3, corresponding to the formation of a p-type Schottky barrier. The current-voltage characteristics of the Ni/BiInO3/(Ba,Sr)RuO3/NdScO3(110) heterostructure show a significant dependence on the applied magnetic field and voltage cycling, which can be attributed to voltage-controlled band bending and spin-polarized charge accumulation in the vicinity of the Ni/BiInO3 interface. The magnetocapacitance effect can be realized at room temperature without involving multiferroic materials.
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