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Reduction of internal stress in InGaZnO (IGZO) thin film transistors by ultra-thin metal oxide layer
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作者
Shuo Zhang,
Bin Liu,
Xi Zhang,
Congyang Wen,
Haoran Sun,
Xianwen Liu,
Qi Yao,
Xiaorui Zi,
Zongchi Bao,
Zijin Xiao,
Yunsong Zhang,
Guangcai Yuan,
Jian Guo,
Ce Ning,
Dawei Shi,
Feng Wang,
Zhinong Yu
出处
期刊：
Materials Science in Semiconductor Processing
[Elsevier BV]
日期：2024-01-12
卷期号：173: 108093-108093
被引量：10
标识
DOI：10.1016/j.mssp.2023.108093
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