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Strain engineering of graphene on rigid substrates
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作者
Yang Zhang,
Yanhan Jin,
Jinglan Liu,
Qiancheng Ren,
Zhengyang Chen,
Yi Zhao,
Pei Zhao
出处
期刊：
Nanoscale advances
[Royal Society of Chemistry]
日期：2022-01-01
卷期号：4 (23): 5056-5061
被引量：11
链接
rsc.org
rsc.org
nih.gov
nih.gov
doi.org
标识
DOI：10.1039/d2na00580h
摘要
A novel technique for high-quality strain engineering of monolayer graphene on the SiO 2 /Si substrate with a maximum strain of 1.5% is achieved.
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