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Silicon carbide on insulator formation using the Smart Cut process

碳化硅 材料科学 绝缘体（电） 硅 绝缘体上的硅 碳化物 光电子学 过程（计算） 工程物理 纳米技术 电子工程 复合材料 计算机科学 工程类 操作系统
作者
L. Di Cioccio,Y. Le Tiec,F. Letertre,C. Jaussaud,M. Bruel
出处
期刊：Electronics Letters [Institution of Engineering and Technology]
日期：1996-06-06 卷期号：32 (12): 1144-1145 被引量：120
标识
DOI：10.1049/el:19960717
摘要
The Smart Cut process has been applied for the first time to SiC, in order to form silicon carbide on insulator (SiCOI) structures. These structures have been formed on polycristalline SiC and on silicon substrates.
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