Development and characterization of a novel RE3+ doped Core-shell CeO2 abrasive system and its glass CMP investigations

材料科学 抛光 磨料 兴奋剂 化学机械平面化 芯(光纤) 复合材料 纳米技术 光电子学
作者
Z.Z Li,Liangmao Jin,Zhiqiang Cao,Chong Zhang,Xin Cao,Gaorong Han,Shou Peng,Yong Liu
出处
期刊:Applied Surface Science [Elsevier BV]
卷期号:638: 158055-158055 被引量:19
标识
DOI:10.1016/j.apsusc.2023.158055
摘要

In recent years, Ultra-Thin Glass (UTG) has attracted substantial market attention due to its multi-scenario applications. One of the technical cores in UTG manufacturing is the abrasive design of the chemical mechanical polishing (CMP) process. The present work proposed rare-earth-doped core-shell structured [email protected]2, [email protected]2:La, and [email protected]2:Yb abrasives synthesized by a low-temperature two-step method. The core-shell abrasives are large uniform nanospheres with a size of about 375 nm ∼ 450 nm. According to the matching effect of RE3+ radii and defect sizes, La3+ with larger radii exhibits a more substantial modulation effect than Yb3+ upon the lattice distortion and Ce3+/Ce4+ chemical shift. The CMP results revealed the superior polishing efficiency and better flattening ability of core-shell abrasives. The optimized [email protected]2:La shows the best glass polishing ability (MRR=480.22 nm/min, Ra=0.32nm), which is attributed to the increased Ce3+ composition from 9.79% to 28.14% (compared with the pristine [email protected]2) and large particle size, indicative of potential applications of novel abrasive systems in the field of glass polishing.
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