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Mechano-chemical polishing of silicon wafers

作者
Chao‐Chang A. Chen,Li-Sheng Shu,Shah-Rong Lee
出处
期刊：Journal of Materials Processing Technology [Elsevier BV]
日期：2003-09-01 卷期号：140 (1-3): 373-378 被引量：46
标识
DOI：10.1016/s0924-0136(03)00827-6
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