High temperature annealing of n-type bulk β-Ga2O3: Electrical compensation and defect analysis—The role of gallium vacancies

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作者
H. J. von Bardeleben,Gaohang He,Ying Wu,Sunan Ding
出处
期刊:Journal of Applied Physics [American Institute of Physics]
卷期号:134 (16)
标识
DOI:10.1063/5.0173581
摘要

The effect of high temperature annealing under O2 and N2 atmospheres on the electrical properties and defect formation on Sn doped n-type β-Ga2O3 bulk samples was investigated by electron paramagnetic resonance (EPR) spectroscopy. EPR, being a volume sensitive technique, probes the entire sample volume. Our results show an electrical compensation being correlated with the formation of a negatively charged Ga vacancy defect VGa2−. This VGa center is different from the one observed after particle irradiation. The associated shift of the Fermi level reveals the presence of Fe3+, Cu2+, and Cr3+, which are residuals related to the growth conditions. The 1100 °C N2 annealed sample is fully compensated, and the neutral donor resonance is no longer observed. Our results directly confirm the thermal instability of Ga and Sn in n-type conducting samples. No oxygen vacancy related centers were detected. We discuss the various Ga vacancy centers reported previously.
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