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The defects of reported TID reinforced structures and the improved structure

NMOS逻辑浅沟隔离材料科学光电子学吸收剂量 GSM演进的增强数据速率 CMOS芯片晶体管阈值电压 MOSFET 电子工程辐射电气工程电压纳米技术工程类光学沟槽物理电信图层（电子）

作者

Yongbo Liao,Yangmeng Liu,Ping Li,Ke Feng,Pigen Yuan

出处

期刊：Microelectronics Reliability [Elsevier BV]
日期：2023-05-18 卷期号：146: 115018-115018 被引量：1

标识

DOI：10.1016/j.microrel.2023.115018

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