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作者
Muneo Sugiura,Koichi Tamura,Mitsunobu Kobiyama
出处
期刊：Applied optics-OT
[Optica Publishing Group]
日期：2019-12-13
卷期号：59 (5): A92-A92
被引量：5
摘要
A framework to quantitatively calculate substrate bending after coating has been proposed. By introducing fitting parameters to modified Stoney’s formula, the amount of bending has been calculated to accuracies of less than λ / 10 at 633 nm for ion-beam sputtering and ion-beam assisted deposition processes.
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(2025-6-4)
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FIN
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XX
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